1. 光电光学超纯水设备应用范围：
可适用光电制品，如：LCD,LED，触摸屏等
光学制品：如光学镜头、光学镜片等系列产品
 
2. 用水水质要求：
此类光电光学产品对水质要求十分高，出水水质一般要求在15兆欧以上。
主要用于超声波清洗时的纯水水洗槽，进水方式主要采用水逆流方式。
 
3. 用水量：
小型生产线如：一条长10左右的清洗线一般一天用水10T左右。
大型生产线：一条50米的清洗线一般一天用水50T左右
 
4.  设备要求：
根据用水水质要求，光电光学超纯水设备主要选用反渗透+混床+核能级混床工艺或采用反渗透+EDI+核能级混床工艺，两种超纯水设备均能达到出水水质在15兆欧以上。